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今天咱們來講述下關(guān)于光刻機(jī)的性能特點(diǎn)

更新時(shí)間:2021-09-18      點(diǎn)擊次數(shù):2302
光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)該機(jī)可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板,采用積木 錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明。
該機(jī)可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板,采用積木 錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明,并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(可同時(shí)使用),拼接獲得大面積圖形,曝光設(shè)定采用微機(jī)控制,菜單界面友好,操作簡便。
光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。
分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。
對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。
曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準(zhǔn)分子激光器等。
分類
光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡便性分為三種,手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)
A 手動(dòng):指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對(duì)準(zhǔn),對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不高了;
B 半自動(dòng):指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧;
C 自動(dòng): 指的是 從基板的上載下載,曝光時(shí)長和循環(huán)都是通過程序控制,自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)于處理量的需要。
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