紫外光刻機是制造集成電路中重要的設備，特別是現(xiàn)在市面上大部分的芯片都是屬于電子芯片，當電子芯片的工藝小于一定的尺寸的時候，就必須依靠光刻機在制作芯片，也就是說如果沒有光刻機就沒有辦法制造出頂級的芯片，比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可能造出。而芯片在生活中是重要的，比如電腦、手機等電子產(chǎn)品都少不了。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過**設計，方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點：高分辨率掩模對準光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實現(xiàn)快速準確對準、針對厚膠工藝進行優(yōu)化的高分辨光學系統(tǒng)、可選配通用光學器件，在不同波長間進行快速切換等。
隨著電子業(yè)的飛速發(fā)展,對作為電子元器件基礎的印制板的需求量及其加工精度的要求越來越高。紫外線光刻機是印制板制造工藝中的重要設備。傳統(tǒng)光刻機的玻璃-邁拉曬架在生產(chǎn)過程中需要人工趕氣,邁拉膜需要經(jīng)常更換。由于冷卻系統(tǒng)過于臃腫,使得其生產(chǎn)成本高、效率低,已不能滿足PC B 生產(chǎn)的需要。在實驗基礎上設計了雙玻璃曬架光刻機，改進了其主要組成部分,包括曬架系統(tǒng)、光路系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)以及電氣和控制系統(tǒng)的整體設計。
在計算機的控制下，利用聚焦電子束對有機聚合物（通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠）進行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細圖形。
紫外光刻機的原理是在已經(jīng)切割好的晶圓（通常是多晶硅）上覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過掩模照射在晶圓表面，被紫外線照射到的光刻膠會發(fā)生反應。此后用特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠，就實現(xiàn)了電路圖從掩模到晶片的轉(zhuǎn)移。簡單來說，就用紫外線把多層電路圖雕刻在晶圓上，而在這過程中就必然要用到光刻機。
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